日本原裝片面処理用PL17-110型 卓上型光表面処理裝置
日本原裝片面処理用PL17-110型 卓上型光表面処理裝置光 表 面 処 理 裝 置 と 光 源概 要 固體表面の接著力や親水性を高める処理法には、無水クロム酸や硫酸などの劇薬を用いる濕式プロセスから電子やイオンを用いるドライプロセスまで多くの工法がある。 その中で紫外線(UV)を用いるU(xiǎn)V光表面処理裝置はドライプロセスで、大気中で処理でき、UV改質(zhì)とUV洗浄の二つの効果を併せ持ち、対象製品にあた
日本原裝片面処理用PL17-110型 卓上型光表面処理裝置
| 光 表 面 処 理 裝 置 と 光 源 |
| 概 要 固體表面の接著力や親水性を高める処理法には、無水クロム酸や硫酸などの劇薬を用 いる濕式プロセスから電子やイオンを用いるドライプロセスまで多くの工法がある。 その中で紫外線(UV)を用いるUV光表面処理裝置はドライプロセスで、大気中で処 理でき、UV改質(zhì)とUV洗浄の二つの効果を併せ持ち、対象製品にあたえるダメージが小 さい新時(shí)代の技術(shù)として注目されている。UVオゾン法の改質(zhì)は、表面の接著力を科學(xué) 的に向上させ、洗浄は表面の接著力を阻害する有機(jī)化合物汚染を除去して間接的に接著 力を向上させ、共に品質(zhì)と歩留まりを高める効果がある。 |  |
| UV/オゾン表面処理法のメカニズム |
| UVオゾン表面処理法が出來ることとは、固體表面の改質(zhì)と洗浄である。どちらの反 応は起きるかは素材に依存し、ガラスやセラミックには洗浄作用が働き、プラスチックや 金屬には改質(zhì)と洗浄の両方が働く。UV光の照射を受け有機(jī)化合物がそのエネルギーを吸 収すると、光エネルギーより弱い分子結(jié)合が切れる可能性を生じる。光のエネルギーは波 長(zhǎng)が短いほう高い。有機(jī)物の結(jié)合エネルギーはUVランプの光と同等か低いものが多い。 波長(zhǎng)が240nm以下の光は酸素を分割して、オゾン生成する。低圧水銀ランプの185nm 線は以下に示す各式の反応を経でオゾンを生成し、254nm線は、活性酸素の生成を促進(jìn) する能力がある。行きの式におえhνはひかりを括弧內(nèi)の數(shù)値は波長(zhǎng)を現(xiàn)す。(3P)は規(guī)則 狀態(tài)の原子、(1D)は勵(lì)起狀態(tài)の原子を示す。 O2+hν(185nm)→O(3P) + O(3P) O2+O(3P)+M→O3) O3+hν(254nm)→O2+(1D) |   |
| バッチ型UV光表面洗浄?改質(zhì)裝置 引出し構(gòu)造のバッチ型光洗浄改質(zhì)裝置は、シンプルに構(gòu)成されている為、安価版設(shè)備 として多數(shù)採用されています。オフラインの生産時(shí)や、設(shè)置スペースに制限が有る場(chǎng) 合に最適です。ランプ選定はワークサイズに合わせて採用し、ランプ本數(shù)は生産タクト タクト（搬送速度）に合わせた本數(shù)選定が可能です。 コンベア型UV光表面洗浄?改質(zhì)裝置 ワークを搬送しながら紫外線を照射出來るローラー又はＳＵＳネットコンベア－タイプ の紫外線洗浄裝置は駆動(dòng)部を構(gòu)造的に遮蔽する事で、よりクリーンな搬送を可能とし た生産設(shè)備です。ランプ選定はワークサイズに合わせて採用し、ランプ本數(shù)は搬送速 度（生産タクト）に合わせた本數(shù)選定が可能です。 卓上型UV光表面処理裝置 卓上型光表面処理裝置は、110W低圧水銀ランプの採用により強(qiáng)力な表面処理が行える、 コンパクト設(shè)計(jì)により設(shè)置スペースをとらない事に加え、低コストで、大學(xué)やR&D研究 所で最も人気がある卓上型光表面処理裝置です。 用 途  LCPフィルムを素材とするフレキシフル多層プリント回路基板 銅張ポリイミド基板 高密度回路に使われる基板 PCB回路基板 HD, FPD, プラズマテレビ等 |    |
| 卓上型光表面処理裝置 |
| 卓上型光表面処理裝置は、世界中の大學(xué)、研究所、小規(guī)模生産に使用されているベスト セラーのポータブル光表面洗浄?処理裝置です。シャッター付きの新型は、ＵＶランプ がオッフせず安全に使用出來るので、紫外線のランプの壽命も補(bǔ)助する。
|  片面処理用PL17-110型  両面処理用PL2002N-54型 2.5" x 4 ディスクトレー付き | |||||||||||||||||||||||||||||||||||