HORIBA堀場平板碳傳感器電導儀HE-960LF / FS-09F-1 / 2
HORIBA堀場平板碳傳感器電導儀HE-960LF / FS-09F-1 / 2 漿料濃度控制的理想選擇保持漿料的稀釋恒定是有效的。保持適當的電導率值有助于晶片拋光工藝中的工藝穩定性。即使是高粘度的樣品液(CMP Slurry),也采用了降低樣品液粘附在電極上的風險的傳感器結構。此外,傳感器采用耐化學腐蝕的接液材料制成,滿足半導體工藝的清潔度要求。除上述外,還可用于半導體工藝開發階段的引入,以及控
HORIBA堀場平板碳傳感器電導儀HE-960LF / FS-09F-1 / 2 漿料濃度控制的理想選擇保持漿料的稀釋恒定是有效的。保持適當的電導率值有助于晶片拋光工藝中的工藝穩定性。即使是高粘度的樣品液(CMP Slurry),也采用了降低樣品液粘附在電極上的風險的傳感器結構。此外,傳感器采用耐化學腐蝕的接液材料制成,滿足半導體工藝的清潔度要求。除上述外,還可用于半導體工藝開發階段的引入,以及控
HORIBA堀場平板碳傳感器電導儀HE-960LF / FS-09F-1 / 2
漿料濃度控制的理想選擇
保持漿料的稀釋恒定是有效的。保持適當的電導率值有助于晶片拋光工藝中的工藝穩定性。
即使是高粘度的樣品液(CMP Slurry),也采用了降低樣品液粘附在電極上的風險的傳感器結構。
此外,傳感器采用耐化學腐蝕的接液材料制成,滿足半導體工藝的清潔度要求。除上述外,還可用于半導體工藝開發階段的引入,以及控制特殊化學品的導電性。
特征:
高精度/高穩定性
測量范圍:0 至 2,000 μS/cm,0 至 10,000 μS/cm
重復性:±0.5% F/S,±1.0% F/S
無金屬污染
由于極性材料使用特殊碳,因此無需擔心金屬污染洗脫。
配備濃度轉換功能
通過輸入化學濃度和電導率之間的關系以及溫度特性,可以進行兩種濃度轉換。特別適用于低濃度化學品的稀釋控制。
節省空間
通過比我們傳統的電導率傳感器小型化,提高了安裝布局的自由度。