貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000
貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000臥式擴散爐是一種進行熱處理的系統，熱處理是半導體制造過程的一部分。 其結構是加熱器室水平安裝，2~4級堆疊，垂直空間得到有效利用。 熱處理的類型包括擴散和氧化，加工溫度范圍從低溫~高溫，我們使用自己的高性能控制器來支持廣泛的工藝。長處■ 提高熱量均勻
貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000
貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000
貨期短OHKURA大倉 臥式擴散爐 DF1000
臥式擴散爐是一種進行熱處理的系統，熱處理是半導體制造過程的一部分。 其結構是加熱器室水平安裝，2~4級堆疊，垂直空間得到有效利用。 熱處理的類型包括擴散和氧化，加工溫度范圍從低溫~高溫，我們使用自己的高性能控制器來支持廣泛的工藝。
長處
■ 提高熱量均勻性 將與
工作溫度相匹配的加熱器與內部高性能控制器相結合，可實現穩定的溫度控制和熱量均衡長度。
■ 兼容100~200mm晶圓
擴散爐系統是滿足φ100mm至φ200mm客戶需求的擴散爐。
■易于維護
：當其他加熱器處于高溫狀態時，可以安全地更換熱電偶和加熱器。
■ 性價比 由于所用零件
的選擇和精簡的結構，我們實現了低價格。
■ 兼容
更新 我們還可以通過最小化外部尺寸來應對舊的和有限的空間系統的更新。
規范
| 晶圓尺寸 | ~φ200毫米 | ~φ150毫米 | ~φ125毫米 | ~φ100毫米 |
|---|---|---|---|---|
| 爐體尺寸 *1 | 寬 2650mm× 深 1200mm× 高 2580mm | 寬 2300mm× 深 850mm× 高 2395mm | 寬 2180mm× 深 850mm× 高 2395mm | 寬 1850mm× 深 700mm× 高 2150mm |
| 均衡加熱長度 *2 | 900mm±1.0°C （No.GAS） | 900mm±1.0°C （No.GAS） | 800mm±1.0°C （No.GAS） | 800mm±1.0°C （No.GAS） |
| 溫度范圍 | 600~1200°C | 600~1200°C | 600~1200°C | 600~1200°C |
| 溫度控制 | 3區獨立控制 | 3區獨立控制 | 3區獨立控制 | 3區獨立控制 |
| 輸送系統（選配） | 軟裝載機 船用升降機 | 軟裝卸機 船用升降機 船用裝載機 | 軟裝卸機 船用升降機 船用裝載機 | 船用裝載機 |