貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600
貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600本設備是立式熱處理爐（擴散爐）系統，用于半導體制造過程中的熱處理過程。 對于傳統半導體工廠中使用的大容量泰國熱處理爐和用戶的個性化要求，我們可以以合理的價格靈活應對每個單元的特殊規格。長處■ 性價比通過在引入時定制客戶支持并縮短啟動時間，可以以低價格
貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600
貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600
貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600
本設備是立式熱處理爐（擴散爐）系統，用于半導體制造過程中的熱處理過程。 對于傳統半導體工廠中使用的大容量泰國熱處理爐和用戶的個性化要求，我們可以以合理的價格靈活應對每個單元的特殊規格。
長處
■ 性價比
通過在
引入時定制客戶支持并縮短啟動時間
，可以以低價格提供。 ■ 貼合性能 與
現有潔凈室兼容
的設備概要 外形尺寸：H2600×W900×D1280
■ 維護性能 由于
主要部件和軟件均為內部開發，因此將來
可以
繼續進行維護 ■ 定制性能 可以
進行各種定制，以滿足
客戶需求
■ 產品性能 減少占地面積
，可替代
臥式爐
■ 能源性能 通過
開發
高效加熱器，與本公司相比，實現了10%的節能 可選支持高速溫升和溫降以及高溫過程
規范
| - 基本規格 | |
|---|---|
| 建設： | 垂直向下開口 |
| 加工晶圓直徑： | 4,5,6,8 英寸 |
| 文件數量： | 工藝晶圓：150片（6英寸以下）100片（8英寸以下） |
| 盒式存儲 ： | 處理，最多 8 個暗盒，包括假人（不超過 6 英寸） |
| 處理，最多 6 個暗盒，包括假人（8 英寸或更小） | |
| 過程： | 濕式、干式、退火等 |
| 用法： | N2、O2、H2等 |
| 晶圓處理： | 固定 3 張（標準），一次 5 張/1 張（可選） |
| 上升和下降率： | 溫升 10°C/min max 溫 降 3°C/min max |